Nova i manja tehnologija

Intel je predstavio svoju 32nm tehnologiju, što predstavlja drugu generaciju high-k + metal kapije tranzistora. Intel je po prvi put, danas demonstrirao radnu verziju 32nm Westmere procesora. Ključ nove tehnologije je to što je debljina oksida smanjena sa 1.0nm koja se nalazila na 45nm tehnologiji, na 0.9nm na 32nm tehnologiji, dok je dužina kapije smanjena na 30nm. Kompanija pretpostavlja da ovo omogućava više od 22% povećanja performansi tranzistora i kaže da nastavljaju kapiju tranzistora 0.7 puta svake dve godine, pri čemu je 32nm trenutno najtanja kapija u industriji do sada.

Prelaskom na 32nm, Intel je smanjio struju curenja preko 5 puta u poređenju sa 45nm tehnologijom i više od 10 puta u poređenju sa PMOS tranzistorima. Intel je izjavio da je 32nm SRAM test čip dokaz ispravnosti ne samo 32nm procesa, nego i ispravnost Murovog zakona.

Izvor: theinquirer.net